PS版を紫外光によって露光した新作、濱田祐史作品展「Incidence and Reflection（入射と反射）」

濱田祐史作品展「Incidence and Reflection」が12月1日（木）よりPGIにて開催される。

1979年大阪出身、2003年に日本大学芸術学部写真学科を卒業後、東京を拠点に国内外で作品発表を続ける濱田。本展では最新作「Incidence and Reflection（入射と反射）」が展示される。

本作は、版画で使用されるPS版（Pre-Sensitized Plate）というアルミ版のもつ、塗布されたフォトレジストという組成物に紫外線が反応し硬化することでネガ像やポジ像の版ができるという特性を利用し、紫外光が結ぶ像をとらえている。この方法は晴れた日でも90分以上の露光が必要とされるなど、フィルムでの撮影とは条件が大きく異なる。また、「絶句するほど長い露光の間、目の前の風景が紫外光によって版にどう焼き付いていくのかを想像し（中略）、写真の黎明期にニエプスがヘリオグラフィを発明したのは、リトグラフから着想を得ていたということ（中略）に想いを巡らせた。作品を仕上げるにあたって、版画の技法に基づき版にインクを乗せて紙に刷ってみた。しかし、この作品にとって重要な要素が抜け落ちてしまうことに気づいて、版そのものを展示することにした。」と濱田が語るように、プリントではなくアルミ板に露光された作品約60点が展示される。